1）《潔凈室施工及驗(yàn)收規(guī)范》GB50591

采樣點(diǎn)數(shù)量：培養(yǎng)皿數(shù)應(yīng)不少于微粒計(jì)數(shù)濃度的測(cè)點(diǎn)數(shù)，如工藝無(wú)特殊要求，應(yīng)大于等于下表中的最少培養(yǎng)皿數(shù)，另外各加1個(gè)對(duì)照皿。每一間潔凈室或每一個(gè)控制區(qū)應(yīng)設(shè)1個(gè)陰性對(duì)照皿。

采樣點(diǎn)位置：布置在有代表性的地點(diǎn)和氣流擾動(dòng)極小的地點(diǎn)。在亂流潔凈室內(nèi)培養(yǎng)皿不應(yīng)布置在送回風(fēng)口正下方。當(dāng)客戶無(wú)特定要求時(shí)，培養(yǎng)皿應(yīng)布置在地面及其以上0.8m之內(nèi)的任意高度。

2）《醫(yī)藥工業(yè)潔凈室（區(qū)）沉降菌的測(cè)試方法》GB/T16294       

采樣點(diǎn)數(shù)量：沉降菌測(cè)試的最少采樣點(diǎn)數(shù)目參照GB/T16292-2010的規(guī)定，在滿足最少采樣點(diǎn)的同時(shí)，還宜滿足最少培養(yǎng)皿數(shù)。

每次或每個(gè)區(qū)域取一個(gè)對(duì)照皿。

采樣點(diǎn)位置：沉降菌的采樣點(diǎn)位置可參照GB/T16292。

• 工作區(qū)采樣點(diǎn)位置離地0.8m～1.5m左右（略高于工作面）；

• 可在關(guān)鍵設(shè)備或者關(guān)鍵工作范圍處增加測(cè)點(diǎn)。

• 布置采樣點(diǎn)時(shí)，至少應(yīng)盡量避開塵粒較集中的回風(fēng)口。

3）《醫(yī)院潔凈手術(shù)部建筑技術(shù)規(guī)范》GB50333

采樣點(diǎn)數(shù)量：沉降菌測(cè)點(diǎn)數(shù)目應(yīng)與含塵濃度測(cè)點(diǎn)數(shù)相同，同時(shí)滿足如下規(guī)定的最少培養(yǎng)皿數(shù)的要求：

（1）局部百級(jí)周圍千級(jí)設(shè)置13個(gè)點(diǎn)

（2）局部千級(jí)周圍萬(wàn)級(jí)設(shè)置9個(gè)點(diǎn)

（3）局部萬(wàn)級(jí)周圍十萬(wàn)級(jí)設(shè)置7個(gè)點(diǎn)

（4）十萬(wàn)級(jí)設(shè)置5個(gè)點(diǎn)（避開送風(fēng)口正下方）

（5）三十萬(wàn)級(jí)：面積＞30m2布放4點(diǎn)，面積≤30m2布放2點(diǎn)（避開送風(fēng)口正下方）

其中：萬(wàn)級(jí)手術(shù)室中央?yún)^(qū)3個(gè)點(diǎn)、周邊區(qū)6個(gè)點(diǎn)，共9個(gè)；百級(jí)手術(shù)室中央?yún)^(qū)13個(gè)點(diǎn)、周邊區(qū)8個(gè)點(diǎn)，共21個(gè)；千級(jí)手術(shù)室中央?yún)^(qū)4個(gè)點(diǎn)、周邊區(qū)6個(gè)點(diǎn)，共10個(gè)；每個(gè)區(qū)域還要有操作對(duì)照，應(yīng)有2次空白對(duì)照：

• 第1次對(duì)用于檢測(cè)的培養(yǎng)皿做比對(duì)，每批1個(gè)對(duì)照皿；

• 第2次檢查時(shí)，對(duì)每室或每區(qū)1個(gè)對(duì)照皿。

采樣點(diǎn)位置：

• 當(dāng)送風(fēng)口集中布置時(shí)，應(yīng)對(duì)手術(shù)區(qū)和周邊區(qū)分別檢測(cè)；

• 當(dāng)送風(fēng)口分散布置時(shí)，應(yīng)全室統(tǒng)一檢測(cè)。

• 采樣點(diǎn)可布置在地面上或不高于地面0.8m的任意高度上。

   

綜上所述，不同標(biāo)準(zhǔn)對(duì)于沉降菌平皿數(shù)的規(guī)定稍有不同。在布置位置上，個(gè)別標(biāo)準(zhǔn)也有較大的差異。沉降菌測(cè)試需要根據(jù)具體行業(yè)而定，選擇滿足相關(guān)法律法規(guī)的進(jìn)行測(cè)試。